Effects of Continuous and Discontinuous Deposition Time in Reactive Direct Current Magnetron Sputtering of Titanium Dioxide Thin Films
ประเภทบทความ :  วารสาร
ชื่อวารสารที่ตีพิมพ์ :  Advanced Materials Research
รายละเอียดการตีพิมพ์ :  Advanced Materials Research vol.1131 pp.251-254
ISBN :  -
วันที่ตีพิมพ์ :  22 ธันวาคม 2015
รายละเอียดวันที่ตีพิมพ์ :  22/12/2015
ระดับผลงาน : 
ลิงค์ที่เผยแพร่ผลงาน : 
ผลผลิตจากโครงการวิจัย :  -
เจ้าของผลงาน
ลำดับที่ชื่อนักวิจัยหน้าที่/บทบาทหน่วยงาน
1Chantana AiempanakitFirst authorสาขาวิชาฟิสิกส์

2026 - คณะวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี มทร.ธัญบุรี
Last Update Version 0.2.2 (8 October 2022)
พบปัญหาการใช้งานแจ้ง งานวิจัยและประเมินผล โทร. 02 549 4164