ข้อมูลตีพิมพ์

Growth and characterization of NiWO nanorod films prepared by reactive magnetron co-sputtering with oblique angle deposition

ประเภทบทความ :

วารสาร

ชื่อวารสารที่ตีพิมพ์ :

Vacuum

รายละเอียดการตีพิมพ์ :

Vacuum Volume 196, February 2022, 110777

ISBN :

0042207X, 18792715

วันที่ตีพิมพ์ :

26 พฤศจิกายน 2021

รายละเอียดวันที่ตีพิมพ์ :

Available online 26 November 2021

ระดับผลงาน :

ลิงค์ที่เผยแพร่ผลงาน :

ผลผลิตจากโครงการวิจัย :

เจ้าของผลงาน

ลำดับที่	ชื่อนักวิจัย	หน้าที่/บทบาท	หน่วยงาน
1	ChanthawutJetjamnong	First author	บุคคลภายนอก
2	SutharatChotikaprakhan	Corresponding author	บุคคลภายนอก
3	Mati Horprathum	Corresponding author	บุคคลภายนอก
4	Rattanachai Kowong	Co-author	บุคคลภายนอก
5	Chanunthorn Chananonnawathorn	Co-author	บุคคลภายนอก
6	Atipong Bootchanont	Co-author	สาขาวิชาฟิสิกส์
7	Tossaporn Lertvanithphol	Co-author	บุคคลภายนอก
8	Saksorn Limwichean	Co-author	บุคคลภายนอก
9	Puchong Kijamnajsuk	Co-author	บุคคลภายนอก
10	Annop Klamchuen	Co-author	บุคคลภายนอก
11	Gang Meng	Co-author	บุคคลภายนอก
12	Anucha Watcharapasorn	Co-author	บุคคลภายนอก
13	Hideki Nakajima	Co-author	บุคคลภายนอก

2026 - คณะวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี มทร.ธัญบุรี
Last Update Version 0.2.2 (8 October 2022)
พบปัญหาการใช้งานแจ้ง งานวิจัยและประเมินผล โทร. 02 549 4164